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SEN日森真空清洁设备PL1-1107A
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  • SEN日森PL1-1107A真空式光学表面处理装置,其核心是通过紫外线光清洗技术,在真空环境下对光学元件表面进行干式、无损伤的清洁和改性处理
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详情介绍

SEN日森真空清洁设备PL1-1107A

💡 技术特点与优势

PL1-1107A装置在设计上具有以下一些显著特点:

  • 真空环境增强效果:在真空环境下,紫外线能量衰减更少,能更有效地作用于工件表面,同时也有利于反应产物的排出。

  • 双波长协同作用185nm254nm紫外线的协同配合,共同完成了从产生臭氧到分解污染物的全过程。

  • 处理面积较大:该装置的紫外线照射尺寸为300 × 400 mm,使其不仅能用于实验,也适合作为一台生产机器使用

📝 操作注意事项

使用此类紫外线清洗设备时,有几点需要特别注意:

  • 清洁对象的形状:此方法主要适用于表面平坦的物体。对于有复杂立体结构或紫外线无法直接照射到的凹陷表面的物体,处理效果会受限

  • 材质限制:由于该技术依赖于氧化反应,因此容易被氧化的材料表面(如某些活泼金属)不适合采用此方法处理

  • 距离控制:清洗表面与紫外线光源的距离需要控制在适当范围内。距离过远会导致产生的臭氧在到达表面前就分解失效,影响清洗效果

  • 安全防护:紫外线尤其是185nm波段产生的臭氧若泄漏,可能对人体造成损害。因此,整个清洗过程必须在封闭装置中进行,并确保废气被妥善处理

产品名称真空式光学表面处理装置
模型PL1-1107A
概述该设备在真空中照射185nm和254nm的光。
目的・透镜、棱镜的清洗、改造
・各种基板材料的预处理
特征- 真空度为 0 至 0.001 Torr。
- 照射尺寸为 300 x 400 毫米,因此可用作生产机器。



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