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多级罗茨型干泵凭借无油运行、高抽速及耐复杂介质等特性,成为高洁净真空工艺的核心设备。其通过多级转子协同实现大气压至中高真空(10⁻² hP)的高效抽气,避免油污染风险,广泛应用于半导体、光伏、科研等领域。以下结合ULVAC、普发真空、KASHIYAMA等主流产品技术特性,系统阐述其核心应用场景。
薄膜沉积与刻蚀工艺
化学气相沉积(CVD):在PECVD、LPCVD、ALD等设备中,多级罗茨泵(如ULVAC GR系列、KASHIYAMA NeoDry系列)提供无油真空环境,避免碳氢化合物污染薄膜。例如,GR90A抽速达112 m³/h(50Hz),极限压力5 Pa,适配高纯气体环境下的连续运行。
刻蚀设备:用于Metal-Etch工艺的真空腔室排气,耐受蚀刻副产物(如氟化物气体)。KASHIYAMA泵采用气镇结构(Gas Ballast)排出水蒸气,并利用耐磨材料抵抗颗粒冲刷,维护周期长达3年。
平板显示(FPD)制造
在OLED蒸镀、液晶封装环节,ULVAC GR180A支持高通量负载锁室(Load Lock),实现基板快速进出腔室。其多电压电机(200–460V)和防爆设计(可选)满足洁净车间的安全要求。
太阳能电池镀膜与沉积
专为PECVD/LPCVD定制的型号(如普发真空S1800CN)优化了氮气吹扫回路与水冷设计,抽速达1800 m³/h,维护成本降低50%。其耐高温特性(80°C)适配硅片镀氮化硅/氧化铝薄膜的高负荷生产。
在钙钛矿电池制造中,多级罗茨泵处理溶剂蒸气(如DMF)时,通过高稀释能力防止冷凝物积聚,保障真空腔室稳定性。
真空热处理与封装
用于电池片退火炉的快速抽真空,ULVAC GR系列可在高负载下反复进行“大气–真空"切换,配合冷却水系统(流量>5 L/min)控温,避免热应力导致的材料变形。
分析仪器配套
扫描电镜(SEM)、质谱仪等需超高洁净真空环境,普发真空ACP 90专为无颗粒应用设计,极限压力3×10⁻² hPa,功耗仅2 kW。其镀铝/不锈钢泵体耐受轻度腐蚀性气体(如HCl),保障长期稳定性。
加速器、同步辐射装置中,KASHIYAMA泵的空冷设计无需冷却水,节省空间并简化安装。
材料研究与生物实验
在纳米材料合成(如石墨烯CVD生长)中,多级罗茨泵实现可控气氛切换;生物样本冻干时,ACP 90的高抽速(1800 m³/h级)快速移除水蒸气,避免样品变性。
化工与涂层行业
适用于树脂固化、真空镀膜等场景。普发真空ACP 90通过智能化压力管理泵送大量可凝气体(如溶剂蒸气),在防腐涂层生产线中替代油泵,杜绝产品污染。
KASHIYAMA泵处理粘性流体(如环氧树脂)时,转子无接触设计避免磨损,寿命提升至10万小时级
食品医药与环保
真空干燥与灭菌:ACP 90的食品级无油设计适配制药冻干机、食品包装设备,满足GMP/FDA规范。其高湿度耐受性(>80% RH)在疫苗瓶真空除水中表现优异。
废气处理:在半导体厂尾气处理系统(如Scrubber)中,ULVAC GR系列耐硫化氢腐蚀,配合防爆电机安全运行
表:主流多级罗茨干泵性能与应用对照
型号/品牌 | 抽速(m³/h) | 极限压力 | 核心场景 | 特殊设计 |
---|---|---|---|---|
ULVAC GR90A | 112 | 5 Pa | 半导体负载锁室、惰性气体排气 | 多电压电机、高负荷连续运行 |
普发真空 S1800CN | 1800 | <1 Pa | 光伏PECVD/LPCVD | 氮气吹扫优化、能耗降50% |
普发真空 ACP 90 | 未公开 | 3×10⁻² hPa | 科研仪器、无菌工艺 | 低功耗(2kW)、耐腐蚀气体 |
KASHIYAMA SDL | 1000 L/min | 1 Pa | 刻蚀设备、真空镀膜 | 空冷设计、3年免维护 |
💎 核心优势总结
洁净无油:全干式结构杜绝碳氢污染,适配半导体/光伏高敏感工艺;
高效节能:多级转子协同实现高抽速(如S1800CN达1800 m³/h),能耗较传统泵降低30–50%;
介质兼容:通过材料优化(镀铝/不锈钢)耐受腐蚀性气体,气镇设计处理可凝蒸气;
维护经济:KASHIYAMA等型号维护周期达3年,更换部件成本减少60%
多级罗茨型干泵以无油革命重塑了制造业的真空逻辑——从光伏镀膜的千级洁净度到半导体刻蚀的分子级防护,从科研仪器的稳定基底到食品冻干的卫生保障,其价值在于:
技术普适性:覆盖1 Pa至10⁻² hPa压力、-20°C至120°C温度范围,适配气体、颗粒、蒸气等复杂介质;
产业推动力:光伏领域本地化定制(如S1800CN)加速产能升级,半导体领域国产替代逐步突破
未来,随着智能控制模块(如IoT实时压力反馈)和绿色设计(低功耗电机)的深化,其应用将向氢能源、量子计算等前沿领域持续渗透,成为精密工业的“真空心脏"。